HG/T 3433-1990 酸性紫红 B
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来源:标准资料网
基本信息
标准名称: | 酸性紫红 B |
中标分类: |
化工 >>
涂料、颜料、染料 >>
染料 |
替代情况: | 原标准号ZB G57026-90;被HG/T 3433-2001代替 |
发布日期: | |
实施日期: | 2002-07-01 |
首发日期: | |
作废日期: | 2002-07-01 |
出版日期: | |
适用范围
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前言
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引用标准
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所属分类: 化工 涂料 颜料 染料 染料
【英文标准名称】:Specificationsforparticulartypesofwindingwires;part21:solderablepolyurethaneenamelledroundcopperwireovercoatedwithpolyamide,class155
【原文标准名称】:特种绕组线规范第21部分:155级聚酰胺包敷可软焊聚氨酯漆包圆铜线
【标准号】:IEC60317-21-1990
【标准状态】:现行
【国别】:国际
【发布日期】:1990-10
【实施或试行日期】:
【发布单位】:国际电工委员会(IX-IEC)
【起草单位】:IEC/TC55
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:绕组线;金属线;电气工程;瓷漆的;规范(验收);聚酰胺;特性;交货条件;验收规范;电线;导电体;铜;绕组;圆导线;聚氨酯;绝缘线;可钎焊的;铜线;漆包线
【英文主题词】:Acceptancespecification;Copper;Copperwires;Deliveryconditions;Electricconductors;Electricwires;Electricalengineering;Enamelled;Enamelledwires;Insulatedwires;Polyamides;Polyurethane;Properties;Roundwires;Solderable;Specification(approval);Windingwires;Windings;Wires
【摘要】:Appliestoinsulatedwiresusedforwindingsinelectricalequipment.Thenominalconductordiameterscoveredarefrom0.05mmto1.6mmforgrades1and2.ReferstoIEC182forbasicdimensions,IEC851fortestmethodsandIEC264forpackaging.
【中国标准分类号】:K12
【国际标准分类号】:29_060_10
【页数】:19P.;A4
【正文语种】:英语
基本信息
标准名称: | 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 |
英文名称: | Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance |
中标分类: |
冶金 >>
半金属与半导体材料 >>
半金属与半导体材料综合 |
ICS分类: |
电气工程 >>
半导体材料
|
替代情况: | 替代GB/T 14847-1993 |
发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
发布日期: | 2011-01-10 |
实施日期: | 2011-10-01 |
首发日期: | 1993-12-30 |
作废日期: | |
主管部门: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
归口单位: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
起草单位: | 宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心 |
起草人: | 李慎重、何良恩、许峰、刘培东、何秀坤 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2011-10-01 |
页数: | 12页 |
书号: | 155066·1-42666 |
适用范围
本标准规定重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法。
本标准适用于衬底在23℃电阻率小于0.02Ω·cm 和外延层在23℃电阻率大于0.1Ω·cm 且外延层厚度大于2μm 的n型和p型硅外延层厚度的测量;在降低精度情况下,该方法原则上也适用于测试0.5μm~2μm 之间的n型和p型外延层厚度。
前言
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引用标准
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T1552 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
GB/T6379.2 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测量方法重复性与再现性的基本方法
GB/T14264 半导体材料术语
所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 半金属与半导体材料综合 电气工程 半导体材料